AI芯天下丨热点丨国内首台10nmn纳米压印光刻机系统交付，光刻领域迎国产化突破

前言：由于半导体制造对图形保真度和套刻精度的极高标准，步进纳米压印技术必须依赖高硬度石英模板。这导致该技术对压印环境洁净

AI芯天下丨趋势丨电子束光刻机，又是什么新东西？

前言：在半导体制造领域，光刻技术始终是推动芯片性能升级的核心动力。随着芯片集成度持续提升，对光刻精度的要求也愈发严苛。电

AI芯天下丨趋势丨俄罗斯芯片自研突破，死磕光刻机

前言：近日媒体报道，俄罗斯自研出EUV光刻机。这一重大突破或将打破ASML在该领域的技术垄断，为全球半导体产业带来新的变

AI新天下丨深度丨EUV光刻机巨头风云争夺战

前言：各大巨头在未来仍将围绕High-NA EUV设备展开激烈竞争，争相导入或宣布市场进展，预示着半导体行业将迎来新一轮